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　　9月12日，首届国际PROLITH光刻仿真技术研讨会在北京隆重召开，本次会议由国际著名的半导体设备公司KLA-Tencor和Anchor Semiconductor主办，北京理工大学承办。
      北京理工大学光学专家周立伟院士，国家科技重大专项02专项技术总师（专家组组长）叶甜春研究员，足球竞彩app排名光电学院院长薛唯，副院长许廷发，光电成像技术与系统教育部重点实验室李艳秋教授出席了此次会议。美国和中国相关企业、科研院所和大学及国内外光刻技术专家、学者90余人参加了会议。Anchor Semiconductor 公司的副总裁Kenneth Wang主持会议。

　　首先，KLA-Tencor公司、Anchor Semiconductor公司、北京理工大学光电学院三方在光刻仿真技术研发、技术交流及人才培养方面签署了意向合作协议。

　　KLA-Tencor公司的Patrick Lee做了PROLITH在光刻仿真技术、光刻新工艺研发，光刻胶研制，光刻机研发等方面的技术及应用报告。北京理工大学李艳秋教授在会议上做了光刻仿真技术及协同设计的学术报告，对课题组在光刻仿真技术方面取得的最新进展进行了全面、细致和深入的介绍，展现了我校在此领域研发的水平、地位和作用。

　　本次会议进一步促进和扩大中国光刻仿真技术在国际相关领域的合作和影响，为北京理工大学开展国内外产、学、研实质性合作及人才培养奠定了重要基础，有力地支撑了我国光刻技术和相关设备研发。

（ 审稿人：李艳秋）